■開催日時：　2026年10月26日(月)13:00～16:30

■会場：　【WEB限定セミナー】※在宅、会社にいながらセミナーを受けられます　

■定員：　30名

■講師：　
オフィスシラミズ 室長　白水 好美　氏
　Ph.D. thesis (2019 TOHOKU University)
　“Study of Contamination Analysis and Control Technology on Semiconductor Manufacturing Processes “
【専門】
半導体洗浄、クリーン化、微量分析技術、歩留改善
【経歴】
1983年 4月-1991年　　 富士通
1991年10月-2013年 9月 日本電気-NECエレクトロニクスｰルネサスエレクトロニクス
2013年11月-2015年12月　Samsung electronics　常務待遇

 ■受講料：　49,500円（税込、資料付き／1人）
※最新のセミナー情報を「配信可」にすると割引適用（登録無料）
会員（案内）登録していただいた場合、通常1名様申込で49,500円(税込)から
　・1名で申込の場合、44,000円(税込)へ割引になります。
　・2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,500円（1名につき半額）です。

■備考：　
資料付き　
【LIVE配信セミナーとは？】

■主催：　(株)R&D支援センター

■持参物：　
受講にはWindowsPCを推奨しております。
タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。

■習得できる知識：　
半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できます。
1.各種汚染が半導体デバイスに与える影響
2.洗浄乾燥技術
3.クリーン化技術
4.各種モニタリング技術
5.ナノパーティクルの発生メカニズム

■趣旨：　
　半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こす。序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。洗浄以外の汚染制御技術に関して紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。洗浄技術は半導体デバイスの品質の向上のために必要である。洗浄の意義を一緒に考えましょう！

■プログラム：　
１．序論－汚染が半導体デバイスに与える影響
　1-1　クリーン化の重要性
　1-2　金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル
　1-3　分子汚染(NH3, アミン, 有機物, 酸性成分)
　1-4　各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術

２．洗浄技術
　2-1　RCA洗浄
　2-2　各種洗浄液と洗浄メカニズム-薬液系洗浄　vs. 純水系洗浄
　2-3　洗浄プロセスの動向
　2-4　乾燥技術
　2-5　最先端の洗浄技術とその問題点

３．その他の汚染制御技術
　3-1　工場設計
　3-2　ウェーハ保管、移送方法

４．次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
　4-1　新洗浄乾燥技術(SCCO2洗浄乾燥, PK剤乾燥)
　4-2　次世代の洗浄、汚染制御の課題と提言